在太阳能光伏发电和电子工业的快速发展的情况下，大直径、高纯度的晶体硅的需求越来越大。该项目利用磁场结合覆盖液技术，获得了磁场和覆盖剂共同控制下热对流及温度波演化的三维时空图像，以及磁场强度、几何特征及覆盖剂的厚度、杂质等外在参数对单晶硅生长质量控制，通过抑制熔体的热对流和温度波动，降低熔硅与石英坩埚的反应速率，控制氧的浓度和分布，从而在磁场中生长出高质量大直径的硅单晶。 技术特点：（1）结合覆盖剂的应用，获得不同磁场下，硅熔体内热对流产生的临界条件、演化规律；（2）在磁场作用下，对流中的最大涡量强度减小到 20.7（1/s）；（3）完全抑制了对流的不稳定和温度的波动；（4）利用覆盖剂的磷杂质直接对单晶硅进行掺杂性。 应用领域及前景：该项目技术成熟，其应用对太阳能电池生产具有重大意义。
