合作信息

    RTP（快速热处理设备）是逐渐广泛应用于硅及其化合物半导体材料离子注入后的退火，硅化合物的形成，欧姆接触制备以及快速氧化、北京航空航天大学科研推广项目汇编快速氮化等工艺中。该设备大范围控制炉内温度的能力，配备计算机控制系统后，可灵活实现热处理过程控制，用户根据自己的设计可以实现热处理过程的灵活调整，因此该设备不仅可用于小批量生产，更适合于科研院所从事有关科研工作的人员使用。