当前真空表面改性技术，日益向集成化、多功能化的方向发展。本项目是在磁控溅射技术、多弧离子镀技两种镀膜方法的基础上，结合先进的全方位离子注入技术，进行等离子体复合表面改性的新技术。项目利用近年来我国防工业支持的航天飞行器表面改性技术的研究成果，结合国内外表面改性技术的最新发展，实现包括大闭环磁控溅射技术、全方位离子注入技术、弯曲电弧磁过滤技术的复合等离子体增强沉积。与传统沉积技术相比，具备以下优点：（1）可以在膜与基体之间形成混合界面；（2）可在随时对涂层进行掺杂、改善涂层结构和表面能；（3）提供一种方便易行的薄膜材料结构、成分控制手段、能够在薄膜沉积过程中进行掺杂；为新型膜层的制备、提供便利条件；（4）能够改变北京航空航天大学科研推广项目汇编薄膜原有的形核生长模式；（5）能够在传统薄膜的基础上获得对薄膜进行进一步改性的薄膜，提高薄膜的硬度、抗氧化性、抗腐蚀性等；（6）能够改善基片对薄膜的亲和性，使得传统工艺无法附着或者附着差的薄膜实现薄膜附着、并提高薄膜与基片的结合力。 项目的应用领域非常广泛，目前已有的主要应用领域包括： 工模具：各种钻头；各种刀具，各种模具。高质量DVD光盘模具等。 装饰膜层：卫生洁具、招牌等 硬质保护膜：眼镜、表带 光学膜：眼镜、玻璃、光学器件， 电子领域：导电薄膜、电介质膜、半导体薄膜、传感薄膜、磁性膜。 高性能薄膜：高sp3键的类金刚石膜、掺杂DLC膜、CN膜等。 高质量的工具：如PCB钻头。
